高純試劑主要用于化學(xué)研究等專業(yè)領(lǐng)域
更新日期：2019-07-22 瀏覽次數(shù)：1701
高純試劑在通用試劑基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，是為了專門的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的純度高的試劑。高純試劑控制的是雜質(zhì)項含 量，基準試劑控制的是主含量，基準試劑可用標準溶液的配制，但高純試劑不能用于標準溶液的配制（單質(zhì)氧化物除外）。目前在上也無統(tǒng)一的明確規(guī)格，我國 除對少數(shù)產(chǎn)品制定了國家標準外，大部分高純試劑的質(zhì)量標準還很不統(tǒng)一，在名稱上也有高純、超純、特純、光譜純、電子純等不同叫法。一般以9來表示產(chǎn)品的純度。 高純試劑是進行化學(xué)研究、成分分析的相對標準物質(zhì)，是科技進步的重要條件，廣泛用于物質(zhì)的合成、分離、定性和定量分析，可以說是化學(xué)工作者的眼睛，在工廠、學(xué)校、醫(yī)院和研究所的日常工作中，都離不開化學(xué)試劑。
高純試劑通常應(yīng)用于專業(yè)領(lǐng)域，例如針對色譜使用的色譜純試劑、針對光譜使用的光譜純試劑。此外，電路、液晶等領(lǐng)域都有各自行業(yè)標準的高純試劑。
電子微加工技術(shù)用超凈高純試劑的品種已超過30種，目前應(yīng)用廣泛的有10多種。依照其用途，可以劃分為光刻膠配套試劑、濕法蝕刻劑和濕法工藝試劑；依照其性質(zhì)則可以分為：無機酸類、無機堿類、有機溶劑類及其他類型超凈高純試劑，如表12-4所示。資料顯示，超凈高純試劑在半導(dǎo)體工業(yè)中的消耗比例大致為：硫酸約占27%～33%，鹽酸約占3%～8%，其他酸約占10%～20%，氨水約占8%，有機溶劑約占10%～15%，雙氧水約占8%～22%，其他蝕刻劑約占12%～20%。
高純試劑的基礎(chǔ)知識就先介紹到這兒了，以上這些內(nèi)容可以自行消化下，還想要更深入的了解它的知識，那么先關(guān)注我們，小編之后也會帶領(lǐng)大家一起來學(xué)習(xí)更多的。
